關鍵詞：刻蝕深度 在線檢測 掃描離子束刻蝕 等厚干涉 衍射光學元件 

摘要：基于楔形光學平板的等厚干涉原理，提出了一種透射衍射光學元件掃描離子束刻蝕深度的在線檢測方法，用一塊與被刻蝕光學元件材料相同的楔形薄片作為陪片，在刻蝕過程中將其遮擋一半，利用陪片等厚條紋的錯位去測量其刻蝕深度，從而間接檢測出被刻蝕光學元件的刻蝕深度。在KZ-400大型離子束刻蝕裝置上建立了這種在線檢測裝置。多次實驗表明，在線檢測結果同臺階儀的測量結果基本吻合，二者相差不超過10nm。本檢測方法能夠可靠、準確地用來確定刻蝕終點，已經成功應用于位相型Ronchi光柵等大口徑位相衍射光學元件的刻蝕制作。本方法還可以用于對其他透明材料的微結構進行掃描刻蝕深度在線檢測。

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